Çin, milyarlarca dolarlık fonları sürekli olarak kalıcı problemlere yönlendirerek çip üretiminde kendi kendine yeterlilik kazanma hedefinde önemli bir adım attı. Bu strateji, ABD’nin ihracat kısıtlamalarını etkisiz hale getirmeye ve Çin’in son teknoloji Aşırı Ultraviyole (EUV) litografisine erişimini sağlamaya yönelik bir planın parçası olarak görülüyor. Silikon fotoniği alanındaki yeni gelişmeler, Çin’in çip üretimi konusundaki hedeflerine ulaşma çabalarını hızlandırmış gibi görünüyor.
Silikon fotoniği, mikroçipler arasında ve içinde veri aktarımı için elektrik akımı yerine kızılötesi ışık kullanarak yüksek bant genişliği sunan bir teknoloji. Bu yöntem, geleneksel çip mimarisine göre çok daha az enerji harcarken mevcut üretim tekniklerinden faydalanarak Moore Yasası’nda belirtilen sınırlamaların üstesinden gelme potansiyeli de taşıyor. Bu gelişme ise çip üretiminde verimlilik ve performansı artırma konusunda önemli bir adım olarak değerlendiriliyor.
Çin’in Vuhan şehrindeki devlet destekli JFS Laboratuvarı, silikon tabanlı bir çiple entegre edilmiş bir lazer kaynağını başarıyla çalıştırmayı başardı. Bu sayede Çin’in opto-elektronik teknolojisindeki önemli eksikliklerden birini gidermiş oldu.
Hatırlatmak gerekirse Çin, JFS Laboratuvarı’nı 2021 yılında 8.2 milyar yuan (yaklaşık 1.2 milyar dolar) başlangıç fonu ile kurdu. Laboratuvar, ülkenin opto-elektronik alanındaki gelişmelerine katkı sağlamayı hedefliyor.
Çin’in çip üretiminde önemli bir adım atması, Derin Ultraviyole (DUV) litografisine dayanıyor; bu yöntemle 7nm düğümünde çip üretilebiliyor. Ancak uzmanlar, Çin’in 7nm altındaki düğümlerde verimli bir şekilde çip üretimi yapmak istiyorsa Aşırı Ultraviyole (EUV) litografisine erişim sağlaması gerektiğini belirtiyorlar. Bu erişim, ABD’nin EUV litografi makinelerinin tek tedarikçisi olan Hollandalı ASML şirketi üzerindeki kontrolü nedeniyle şu an için mümkün görünmüyor. Mevcut koşullar altında silikon fotoniği, Çin’in ABD’nin mikroçip kısıtlamalarını aşmasına yardımcı olabilir.
Kaynak: wccftech.com
