Bildirildiğine Göre Çin, ASML’nin High-NA EUV Düzeyinde Hassasiyet Sunan Litografi Makinesi Geliştirdi, ancak Araştırma Amaçlı, Seri Üretim İçin Değil
Çin’in çip üretiminde vites yükselttiği konuşuluyor. Ülkedeki bir ekip, ticari kullanıma uygun ilk e-ışın (electron-beam) litografi aracını geliştirdi. Çin’in yeni litografi çözümü, wafer yüzeyine desenleri elektron demetiyle “yazarak” işliyor. Ancak bu yöntem nokta nokta ilerlediği için bir wafer’ı tamamlamak saatler sürebiliyor. Yani çözünürlük çok yüksek olsa da üretim hızı düşük. Batı ile kıyaslandığında Çin’in, ASML’nin…