TSMC, 1.4nm ve 1nm için Pahalı Çip Ekipmanları Yerine Farklı Bir Yönteme Yöneliyor
TSMC’nin 2nm sürecinde mevcut EUV (Aşırı Ultraviyole) makineleriyle yüksek verimde toplu üretim sürüyor. Ancak şirket, 1.4nm ve 1nm gibi 2nm altındaki düğümlere (sırasıyla A14 ve A10) geçerken üretim tarafında ciddi engellerle karşılaşacak. Bu noktada TSMC’nin pahalı High-NA EUV makineleri almak yerine fotomaske peliküllerine (photomask pellicles) yönelmesi bekleniyor. Daha Düşük Maliyet, Daha Çok Deneme-Yanılma 2nm plakaların…