Reuters’ın aktardığına göre Çin, Shenzhen’de yüksek güvenlikli bir tesiste EUV litografi prototipini 2025’in başında çalışır hâle getirdi. Makine neredeyse tüm fabrika katını kaplıyor. Projede, ASML’de çalışmış mühendislerin tersine mühendislik yoluyla EUV sistemlerinin bazı unsurlarını yeniden kurduğu; sistemin 13,5 nm dalga boyunda EUV ışığı üretebildiği ancak henüz çip basamadığı belirtiliyor.
Bu girişim, Pekin’in yarı iletkenlerde dışa bağımlılığı azaltma hedefinin parçası. Projenin, Merkez Bilim ve Teknoloji Komisyonu’nu yöneten Ding Xuexiang’ın şemsiyesi altında yürütüldüğü; Huawei’nin ise tedarik zincirinin farklı halkalarını koordine ettiği ve sahada bizzat ekip görevlendirdiği aktarılıyor. Tesislerde işe alınan bazı eski ASML çalışanlarının, gizliliği korumak için sahte kimliklerle çalıştırıldığı da iddialar arasında. Zorlu kısım, Carl Zeiss’in tedarik ettiği düzeyde optik sistemleri eşlemek. Hedef 2028’de ilk örnek çipleri görmek olsa da kaynaklar 2030’un daha gerçekçi olduğunu söylüyor.
Arka planda, Çin’e EUV ekipman satışına 2019’dan beri uygulanan kısıtlamalar var. Hollanda ve ABD baskıları, 2023–2024’te gelişmiş DUV araçlarını da lisans rejimine soktu. ASML, bugüne kadar Çin’e tek bir EUV sistemi dahi satmadığını vurguluyor.
Neden önemli?
- EUV, 7 nm altı düğümler için kritik. Batı’nın uzun süredir tekeli olan bu teknolojiye Çin’in prototip düzeyinde de olsa yaklaşması, kendi üretim ekosistemini kurma yolunda önemli bir eşik.
- Öte yandan küresel yarış durmuyor: Intel, High-NA EUV aracını kurup üretim hatlarına yaklaştırdı. Bu da çıtanın hızla yükseldiğini gösteriyor.
Özetle: Çin’in EUV makinesi henüz çip basmıyor; ama ışık kaynağını çalıştırmak ve sistemi entegre etmek başlı başına kritik adımlar. İlerleme hızı, tedarik kısıtları ve optik hassasiyet gibi alanlarda aşılacak engellere bağlı olacak.
Kaynak: www.techspot.com