Litografi alanında sıçrama peşindeki Çinli mühendislerin, ASML’nin bir DUV (Derin Ultraviyole) sistemini söküp incelemeye çalışırken cihazı bozduğu ve sorunu çözmesi için bu kez ASML’yi yardıma çağırdığı iddia edildi.
İddiaya Göre “Çözme” Denemesi Ters Tepti
Çin’in yarı iletken üretimi, fabrikalardaki litografi ekipmanı eksikliği yüzünden ölçeğini büyütmekte zorlanıyor. Bu durum, SMIC gibi şirketleri belli bir kapasiteye sıkıştırıyor. The National Interest’in aktardığına göre bazı mühendisler, çözümü ASML’nin DUV makinelerini tersine mühendislikte aradı. Ancak sökme işlemi sırasında daha eski bir sistem hasar görünce ekip, ASML’den teknik destek istedi. Çin’e gelen teknisyenler, arızanın normal bir arıza değil; cihazın sökülüp toplanmaya çalışılması yüzünden oluştuğunu tespit etti. Bu iddia, şu an için ASML tarafından doğrulanmış değil.
DUV bir sistemi “söküp çözmek” son derece zahmetli çünkü içerde yüksek hassasiyetli alt sistemler, kırılgan optikler ve ince ayarlı kalibrasyonlar var. ASML’nin makineleri; kendi test rutinleri, kalibrasyon taban çizgileri ve parça ekosistemiyle çalışıyor. Bu yüzden müdahale gerektiğinde çoğu zaman tek yetkin adres yine ASML oluyor.
Çin, yerli litografi araçlarında ilerleme kaydetse de kalite ve verim tarafında hâlâ ASML seviyesine yaklaşmış değil. Bu nedenle iddia edilen olayın motivasyonu şaşırtmıyor. Yine de gelişmenin kaynağı net değil ve resmi bir doğrulama bekleniyor.
Kaynak: wccftech.com
