Rapidus, Hokkaido’daki IIM-1’de 2 nm deneme üretimine geçti
Japonya’nın devlet destekli çip girişimi Rapidus, Hokkaido Chitose’deki IIM-1 tesisinde şantiye düzeninden pilot hatta geçti. Şirket, Aralık 2024’te ASML’nin EUV litografi sistemini sahaya indirip kurdu; Nisan 2025’te pilot hatı açtı ve Temmuz 2025’te 2 nm gate‑all‑around (GAA) transistör yapıları içeren ilk deneme wafer’larını gösterdi. Bu adımlar, Japonya’da seri üretime uygun ilk EUV makinesinin devreye alınmasıyla…