Çin’in ileri yarı iletken üretim teknolojilerinde dışa bağımlılığını azaltma hedefi somut adımlarla ilerliyor. Huawei’nin Dongguan tesislerinde test aşamasında olan yerli Aşırı Ultraviyole (EUV) litografi sistemi, bu alanda teknik tekel konumundaki Hollandalı ASML şirketine rakip olma yolunda önemli bir gelişme olarak görülüyor.
Yeni geliştirilen sistem, lazer kaynaklı deşarj plazma (LDP) teknolojisini kullanarak 13.5 nanometre EUV ışıması üretmeyi başarıyor. Bu teknolojide, elektrotlar arasındaki kalay buharlaştırılarak yüksek voltajlı deşarj yoluyla plazmaya dönüştürülüyor. Elektron-iyon çarpışmaları sonucunda da gerekli dalga boyu elde ediliyor.
Çin’in EUV Teknolojisi ASML’nin Tekelini Tehdit Ediyor
2025’in üçüncü çeyreğinde deneme üretimine başlayacak olan sistem için, 2026’da seri üretime geçilmesi hedefleniyor. Bu gelişme, ABD’nin Çin’e EUV teknolojisi ihracatına yönelik yaptırımlarına karşı önemli bir hamle olarak değerlendiriliyor.
Huawei sisteminin çözünürlük yeteneklerinin, işlem kararlılığı ve mevcut yarı iletken üretim akışlarıyla entegrasyonu konusunda yanıtlanması gereken sorular olsa da ASML’nin pazardaki konumunu zorlayacağı kesin. ASML’nin son teknoloji High-NA EUV aracı 380 milyon dolar civarında bir maliyete sahipken, Çin menşeli sistemin maliyeti ise şimdilik belirsiz.
Huawei’nin EUV makinesi, daha önce yerli çip üretimini sınırlandıran eski DUV (Derin Ultraviyole) tarayıcıları için çok ihtiyaç duyulan bir yükseltme yolu sunacak. SMIC gibi önde gelen fabrikalar, EUV tarayıcılarını mevcut iş akışlarına entegre etmek için Huawei ile çalışıyor.
Kaynak: TechPowerUp
