- Katılım
- 6 Aralık 2023
- Mesajlar
- 14.618
- Makaleler
- 5
- Çözümler
- 3
- Beğeniler
- 4.930
ASML, geleceğin çip üretim süreçleri için aşırı ultraviyole (EUV) litografi sistemlerinin optik yapısını geliştirmeyi planlıyor. Gündemdeki adımlardan biri, aynaların ışığı toplama ve odaklama kapasitesini artırmak. Böylece silikon plakalar üzerine daha ince devre desenleri işlenebilecek. Ancak bu, mevcut makinelerde hemen uygulanacak bir değişiklikten çok, ilerideki üretim süreçlerine yönelik bir çalışma. EUV sistemlerinde ışığı yönlendirmek için mercekler…
Devamını Oku: ASML, Daha İnce Çip Desenleri İçin EUV Optiğini Geliştiriyor
Kaynak: Techolay
