Bildirildiğine Göre Çin, ASML’nin High-NA EUV Düzeyinde Hassasiyet Sunan Litografi Makinesi Geliştirdi, ancak Araştırma Amaçlı, Seri Üretim İçin Değil

  • Konuyu başlatan Konuyu başlatan Techolay
  • Başlangıç Tarihi Başlangıç Tarihi
  • Mesaj Mesaj 0
  • Görüntüleme Görüntüleme 43
Katılım
6 Aralık 2023
Mesajlar
13.369
Makaleler
5
Çözümler
3
Beğeniler
4.781

Çin’in çip üretiminde vites yükselttiği konuşuluyor. Ülkedeki bir ekip, ticari kullanıma uygun ilk e-ışın (electron-beam) litografi aracını geliştirdi. Çin’in yeni litografi çözümü, wafer yüzeyine desenleri elektron demetiyle “yazarak” işliyor. Ancak bu yöntem nokta nokta ilerlediği için bir wafer’ı tamamlamak saatler sürebiliyor. Yani çözünürlük çok yüksek olsa da üretim hızı düşük. Batı ile kıyaslandığında Çin’in, ASML’nin…

Devamını Oku: Bildirildiğine Göre Çin, ASML’nin High-NA EUV Düzeyinde Hassasiyet Sunan Litografi Makinesi Geliştirdi, ancak Araştırma Amaçlı, Seri Üretim İçin Değil
Kaynak: Techolay
 
Bu siteyi kullanmak için çerezler gereklidir. Siteyi kullanmaya devam etmek için çerezleri kabul etmelisiniz. Daha Fazlasını Öğren.…