- Katılım
- 6 Aralık 2023
- Mesajlar
- 13.330
- Makaleler
- 5
- Çözümler
- 3
- Beğeniler
- 4.778
TSMC’nin 2 nm sürecinde mevcut EUV makineleriyle yüksek verimde toplu üretim sürüyor. Ancak şirket 1,4 nm ve 1 nm gibi alt-2 nm düğümlere (sırasıyla A14 ve A10) geçerken üretim tarafında ciddi engellerle karşılaşacak. Bu noktada pahalı High-NA EUV makineleri almak yerine, TSMC’nin fotomask peliküllerine yönelmesi bekleniyor. High-NA yerine pelikül: Daha düşük maliyet, daha çok deneme-yanılma…
Devamını Oku: TSMC, 1.4nm ve 1nm İçin High-NA EUV Yerine Photomask Pellicles’e Yöneliyor
Kaynak: Techolay
