TSMC, A14 Sürecinde Yüksek NA EUV Teknolojisini Tercih Etmeyecek
Tayvan merkezli yarı iletken devi TSMC, yeni nesil A14 (1.4nm) üretim sürecinde yüksek sayısal açıklıklı (High-NA) EUV litografi teknolojisini kullanmama kararı aldı. Bu tercih, şirketin performanstan ziyade maliyet verimliliğine odaklandığını açıkça ortaya koyuyor. TSMC, A14 Süreci için Geleneksel EUV Teknolojisine Devam Edecek TSMC’nin Kıdemli Başkan Yardımcısı Kevin Zhang, NA Technology Symposium’da yaptığı açıklamada A14 sürecinde…