TSMC, yeni nesil yüksek-NA EUV teknolojisini atlayıp eski yöntemlere devam edecek. Tayvan merkezli yarı iletken devi, A14 işlem süreci için yüksek-NA EUV teknolojisini kullanmayacağını açıkladı. Bu karar, firmanın şimdilik bu yeni litografi teknolojisine geçmeyeceği anlamına geliyor.
TSMC, Yüksek-NA EUV Teknolojisinde Intel’i Geride Bırakıyor
Yarı iletken teknolojilerinde yenilikçi çözümler sunan TSMC, uzun süredir bu alanda lider konumda. Ancak firma, A14 işlem sürecinde yüksek-NA EUV yerine daha geleneksel olan 0.33-NA EUV teknolojisini tercih edeceğini açıkladı. Bu duyuru, NA Teknoloji Sempozyumu’nda TSMC‘nin üst düzey yöneticisi Kevin Zhang tarafından yapıldı.
TSMC, A14 üretim sürecinde yüksek-NA EUV litografisini kullanmayacak. 2 nanometreden 1.4’e kadar yüksek-NA’ya ihtiyaç duymadan üretim adımlarındaki karmaşıklığı koruyabiliyoruz. Her nesil teknolojide yonga plakası artışlarını minimumda tutmaya çalışıyoruz. Bu, maliyet açısından verimli çözümler sunmak için çok önemli.
– TSMC’den Kevin Zhang
Kaynak: wccftech.com
